title: 半导体设备领域国内哪项与国外差距最小？光刻机，刻蚀机，显影机，镀膜机，注入机？
desc: 刻蚀机包括干刻湿刻！镀膜包括CVD，PVD，磁控溅射！说说国内哪个最好，各项国内处于什么水平？
topic: 半导体
content: 谢邀。如果题目范围限于半导体，不含液晶面板，那么国产设备的差距是全面性的，是整个工业体系的差距。差距最大的是光刻机，差距相对小的是镀膜和蚀刻。有空再详细补充。显影机说法不准确，应该是轨道机（track），工艺过程为光刻胶涂布，烘烤及显影。北方微电子的蚀刻设备做的不错，已进入32nm市场。中微半导体的氧化层蚀刻，TSV蚀刻设备有竞争力。沈阳芯源做国内的轨道机，目前没有进入市场。上海微电子做光刻机，Gline有