text: 動校正增加時，其反射時間會增加。反射時間按炮檢距增加的時間曲線為時距曲綫，若反射介面是水平，其時距曲綫是雙曲線形狀。關係如下formula_1其中formula_2 為炮檢距等於零時反射時間，x為炮檢距，v為反射介面上覆層波速。地下介面須由法線反射時間代表其形態。故非法線反射需校正到法線反射，校正值計算如下：formula_3formula_4 為校正值。由計算公式可看出，同一深度反射介面的反射介面、其校正量也不同。除了速度和炮檢距外，校正值也受其它因素的影響，包括反射介面傾角以及其方位角與激發點和檢波器的方位角的關係。
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metadata.title: 動校正
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