text: 光學諧振腔的縱模是一種由諧振腔邊界條件所限定的特定的駐波模式。腔的模式對應於沿腔軸向傳播的經由腔的反射表面多次反射之後形成相長干涉的波的波長。其餘的波長則因相消干涉而抑制。腔模中，縱模的波節沿著腔的軸向分佈。對應的，橫模的波節垂直於腔軸方向分佈。簡單腔.一個常見的縱模示例是鐳射產生的波長。在最簡化的情況下，是由兩面相對的平面鏡構成的諧振腔恰好是其半整數倍的波長，"λ"：formula_1其中，"q"是一整數，被稱為模序數。通常，鏡間距"L"是遠大於光的波長的，所以"q"的值經常會很大：formula_2其中"c"是真空中的光速。這個間隔也被稱為自由光譜範圍。複合腔.如果一個腔不是空腔(比如，包含了一個或更多具有不同折射率的介質)，則腔的縱模的頻率間隔為：formula_3其中，"L"i是第"i"個介質的幾何長度，"n"i是第"i"個介質的折射率。更廣泛地說，對任意一個腔，其縱模都可以透過解具有合適的邊界條件的波動方程得到。對一個腔來說，無論橫波還是縱波都會有縱模。對縱模的分析，在一個單橫模鐳射中是是特別重要的，例如，在單模光纖鐳射當中。這樣一個鐳射的縱模的數量可以透過比較增益光譜範圍和縱模的頻率間隔來估計。單個縱模的功率.對一個單橫模的鐳射而言, 其單個縱模的功率可以透過的方法來獲得很大的提升。這樣一種新增可以同時使單橫模鐳射的輸出功率提升並減少縱模數量，因為這個系統會自動選取出對所有合併的鐳射的共有模式。縱模的減少數量取決於相干新增的條件。相干新增的極限是當合並的鐳射系統只餘下一個在增益光譜範圍內的縱模的時候。如果繼續新增，不僅會導致相干新增的效率降低，也不會繼續增加單個縱模的功率。
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